GD-Profiler 2是一款可进行超快镀层分析的理想工具，适合于导体（和/或）非导体复合镀层的分析。可分析70多种元素，其中包括C、H、O、N和Cl。一次测试可轻松获取镀层元素深度分布、镀层厚度、镀层均一性及表面/界面等信息。
GD-Profiler 2可分析几纳米到200微米的深度，深度分辨率小于1纳米。GD-Profiler 2采用了脉冲式射频辉光源，可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。此外，还采用了多项专利技术，如高动态检测器（HDD）可测试ppm-100%的浓度范围，专利Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。主要应用领域包括镀锌钢板、彩涂板、新型半导体材料、LED晶片、硬盘、有机镀层、锂电池、玻璃、陶瓷等等。

技术参数

1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短，表面信息无任何失真。

2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。

3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm-800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。

4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有更大的光通量，因而拥有光效率和灵敏度。

5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏的检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5×10¹⁰。

6、宽大的样品室方便各类样品的加载。

7、Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。

8、HORIBA独有的单色仪（选配）可极大地提高仪器灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。

9、适用于ISO14707和16962标准。