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重磅新品!日立分析仪器推出OE750——新一代高性能OES光谱仪,用于全面金属分析控制

2019年12月5日:日立分析仪器(Hitachi High-Tech Analytical Science)是日立高新技术公司(TSE:8036)旗下的一家全资子公司,主要从事分析和测量仪器的制造和销售,其已推出一款开创性的OE750型新型直读光谱仪,用于铸造厂和金属生产中,要求严格的金属规格分析。

 

由于复杂的供应链以及作为基础材料使用的废旧金属数量的增加,铸造厂和金属制造商在控制熔体中的杂质和痕量元素时,面临着更多的压力。新型OE750型直读光谱仪具有前所未有的性能水平。它涵盖金属中所有元素的光谱,并实现对某些元素的最低检出限。因此,此款分析仪具备价格高昂的同类仪器所能提供的功能水平,可为众多铸造厂和金属制造商提供优质分析。

 

 

OE750实现高分辨率和宽动态范围要归功于采用了先进CMOS探测器技术的革命性新光学理念。其中有四项专利正处于申请状态。因此,这种新型分析仪能覆盖非常宽的波长范围;这意味着该分析仪能测量金属中ppm级别的所有元素。这对于满足当今严格的金属规格分析至关重要,该分析仪可以满足新的ASTM E415标准中关于碳钢和低合金钢的试验方法的要求。

 

OE750是铝铸件的理想光谱仪,因为它可以测定亚共晶和过共晶铝硅合金中含量极低的磷。它可以分析锑、铋、锶和钠,以及杂质和痕量元素,从而确保这些元素能够被控制在铝熔体中,以优化结构改造。创新性光学设计能实现更短的启动时间,因为光学系统的体积相对较小。这有助于那些需要在多点测量验证熔体质量的工厂实现高批量生产。

 

除了新的光学设计之外,OE750还有其他支持大批量金属分析的技术特性。它有一个新的密封火花台,具有优化层流设计,可降低氩气消耗,降低污染的可能性,并大大降低维护要求。带有低压氩气吹扫的独特中压系统可减少泵的使用。这可将泵的功耗降低90%,并避免油气污染,从而增加可靠性和仪器的正常运行时间。这使得OE750具有高可靠性和低运行成本。

 

除创新性硬件技术外,新型OE750还包括可提高性能的软件。例如,它包括日立牌号数据库,该数据库包含来自69个国家的339,000多种材料的1,200多万条记录和标准,减少人工查阅牌号目录的时间和潜在错误。可选的炉料校正软件会自动计算添加至熔体中的正确材料量,使其符合规范。

 

日立OES产品业务开发经理Wilhelm Sanders表示:“在过去,铸造厂和金属加工企业在购买仪器时,不得不在高分析性能和可接受价格范围之间作出选择。现在有了新型OE750,他们无需想出折中方案了。OE750能凭借一套可使用的解决方案提供全面的金属分析。”

 

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